康宁 Extreme ULE 玻璃：以无与伦比的热稳定性为 EUV 光刻技术设定新标准

康宁公司刚刚在推出了新的超低膨胀 (ULE) 材料，以应对即将到来的低噪点（low-NA）和高噪点（high-NA）EUV 光刻系统日益增长的功率。这种闪亮的新型 Extreme ULE 玻璃将成为下一代光掩膜和光刻镜在未来制造工具中的首选。

Extreme ULE 的主要特点是热膨胀率极低，这为光掩膜的使用提供了卓越的一致性。此外，它还非常平整，有助于消除令人讨厌的 "光掩膜波纹"，减少芯片生产中不必要的变化。这些特点意味着我们可以使用先进的胶粒和光刻胶来提高产量和性能。

超紫外光刻系统采用等离子体源产生超强的超紫外光，同时也会产生大量热量。不过，大部分热量都留在光源室中，与光掩膜分离。然后，超紫外光通过花哨的光刻镜面瞄准光掩膜，但这些镜面对热非常敏感。

光掩膜由多层反射材料制成，能很好地反射超紫外辐射。它们的反射效果很好，但仍会吸收极紫外光中的一小部分，这意味着光掩膜最终会产生一些额外的热负荷。

随着 EUV 工具的发展和每小时处理更多晶片 (WPH)，它们引入了一些强大的光源。这意味着微球、光掩膜和光刻胶将面临更高水平的 EUV 辐射和热量。康宁的 Extreme ULE 玻璃以经典的 ULE 系列为基础，具有令人难以置信的热稳定性和均匀性，这正是下一代高NA 和即将推出的低NA EUV 工具所需要的。

"康宁先进光学副总裁兼总经理 Claude Echahamian 表示："随着人工智能的兴起，集成芯片制造的需求也在不断增长，玻璃创新比以往任何时候都更加重要。"Extreme ULE玻璃将通过帮助实现更高功率的EUV制造以及更高的良品率，扩大康宁在不断追求摩尔定律过程中的重要作用"。