Rapidus 计划在日本部署 10 台 EUV 设备，用于 2 纳米芯片生产

日本芯片制造商 Rapidus 公司正在https://www.trendforce.com/news/2025/01/28/news-rapidus-reportedly-to-install-10-euv-machines-aiming-for-early-mass-production/Rapidus 计划在其新的生产基地推广 10 套最先进的极紫外光（EUV）光刻系统--此举有望显著推动日本先进芯片制造业的发展。据《日刊工业新闻》报道，首席执行官小池敦义分享了即将建成的 IIM-1 和 IIM-2 工厂的这些计划.

2024 年 12 月，第一台 EUV 光刻机抵达新千岁机场，这是日本有史以来第一台 EUV 光刻机。根据公司的时间表，Rapidus 希望最早于 2025 年 4 月在 IIM-1 开始 2 纳米试生产，目标是在 6 月之前向美国半导体巨头博通公司（Broadcom）发送样品芯片。

在生产能力方面，据估计，如果五台EUV工具以最大产能运行，IIM-1每月可加工17,000到20,000片晶圆--假设在制造过程中有大约20层EUV。Rapidus 将使用 ASML 的 Twinscan NXE:3800E 扫描仪，该扫描仪理论上可以在 30mj/cm² 的剂量下每小时处理 220 个晶圆。

雄心勃勃的 2 纳米芯片量产目标设定为 2027Rapidus 公司的目标是在 2027 年实现 2 纳米芯片的量产。例如，台积电计划于 2025 年开始生产 2 纳米芯片，并已与Apple 、Nvidia、AMD 和高通等大客户达成了合作意向。

与此同时，三星也在采取行动，将其部分 3 纳米生产线转换为处理 2 纳米技术，并与 Nvidia 和高通等公司合作进行测试。